一、产品介绍

 

nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL:Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。

 

二、基本参数

 

光源：UV-LED(405nm)

 

打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

 

光学精度：2μm

 

打印层厚：5-20μm

 

打印尺寸：

 

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）

 

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

 

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）

 

文件格式：STL

 

系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

 

重量：550kg

 

电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

 

三、应用领域

 

类巴基球结构

 

应用领域：生物医药

 

特点：整体尺寸：0.2×0.2×0.2 mm³

 

杆径：10μm

 

中空多孔结构

 

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